糖削除ハイポネックス培地  オートクレイブ
  セルロース5倍希釈液 5cc添加
  ハ菌添加

  処理日 2018年1月27日
  写真  2018年2月18日


  培養条件
   最低温度 5℃  最高温度20℃
   室内静置培養。

    # 約20日間で写真のように繁殖した。
       ラン菌はセルロースを急速に分解している。
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 ラン菌(木材腐朽菌) ハ菌の糖削除削除培地+セルロース溶液生育繁殖試験 

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